Engineering Ceramic Co., (EC © ™) Rapport:
Ald (dépôt de couche atomique) Bubbler Integrated est les composants de conteneurs clés qui utilisés pour stocker des matériaux précurseurs dans le processus de dépôt de couche atomique, il pourrait aider à contenir la vapeur précurseur dans un flux de gaz tampon. Non seulement pour l'ALD, également l'utilisation pour le dépôt de vapeur chimique (CVD), le dépôt de vapeur chimique métal-organique (MOCVD).
La semaine 28, la CE a été livréeUne électrode de bougie d'aviation à vide personnalisée pour ALD (dépôt de couche atomique) Système de livraison de vapeur de précurseur.
Application
Fabrication de semi-conducteurs:
Dans la fabrication des puces, afin de développer des couches isolantes de grille de haute qualité (telles que des films diélectriques élevés), des couches d'interconnexion métallique et d'autres structures de films, lesAldLes bouteilles de source contiennent les précurseurs correspondants pour assurer un dépôt de couche atomique précis, qui joue un rôle important dans l'amélioration des performances des puces et la réduction de la consommation d'énergie.
Systèmes micro-électro-mécaniques (MEMS):
Ils sont utilisés pour préparer divers films dans les appareils MEMS, tels que les films sensibles des capteurs et les films fonctionnels sur les surfaces des structures micro-mécaniques, contribuant à améliorer la sensibilité, la stabilité et d'autres indicateurs de performance des appareils MEMS. Optique
Champ de revêtement:
Ils peuvent stocker les précurseurs utilisés pour déposer des films optiques (tels que les films anti-réfléchissants, les films réfléchissants, etc.). Grâce au processus ALD, les films qui répondent aux exigences de performances optiques peuvent être cultivés avec précision sur les substrats tels que les lentilles optiques et les écrans d'affichage pour améliorer la transmittance, la réflectance et d'autres caractéristiques optiques des produits optiques.
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